ASID HIDROFLUOrik/HF
SPESIFIKASI DISEDIAKAN
ketelusan cecair Ketulenan ≥ 35%-55%
EVERBRIGHT® juga akan menyediakan ：
kandungan/keputihan/saiz zarah/PHvalue/warna/gaya pembungkusan/ spesifikasi pembungkusan
dan produk khusus lain yang lebih sesuai untuk keadaan penggunaan anda, dan berikan sampel percuma.
MAKLUMAT PRODUK
Gas hidrogen fluorida larut dalam air, dan larutan berairnya dipanggilasid hidrofluorik.Produk ini selalunya 35% -50% larutan akueus gas hidrogen fluorida, kepekatan tertinggi boleh mencapai 75%, dan ia adalah cecair merokok yang tidak berwarna dan jelas.Bau tajam, tidak menentu, asap putih di udara.Ia adalah asid bukan organik kekuatan sederhana, sangat menghakis, dan boleh menghakis kaca dan silikat untuk menghasilkan tetrafluorida silikon gas.Ia juga boleh berinteraksi dengan logam, oksida logam dan hidroksida untuk membentuk pelbagai garam, tetapi kesannya tidak sekuat asid hidroklorik.Emas, platinum, plumbum, parafin dan beberapa plastik tidak berfungsi dengannya, jadi bekas boleh dibuat.Gas hidrogen fluorida mudah dipolimerkan, membentuk (HF) 2 (HF) 3·· molekul rantai iso, dalam keadaan cecair, tahap pempolimeran meningkat.Simpan dalam bekas yang diperbuat daripada plumbum, lilin atau plastik.Ia sangat toksik dan ulser apabila terkena kulit.
PENGGUNAAN PRODUK
GRED INDUSTRI
Pemprosesan grafit
Asid hidrofluorik ialah asid kuat yang boleh bertindak balas dengan hampir semua kekotoran dalam grafit, dan grafit mempunyai rintangan asid yang baik, terutamanya boleh tahan kepada asid hidrofluorik, yang menentukan bahawa grafit boleh ditulenkan dengan asid hidrofluorik.Proses utama kaedah asid hidrofluorik ialah campuran grafit dan asid hidrofluorik, dan tindak balas asid hidrofluorik dan kekotoran untuk satu tempoh masa untuk menghasilkan bahan larut atau meruap, selepas mencuci untuk menghilangkan kekotoran, dehidrasi dan pengeringan untuk mendapatkan grafit yang telah dimurnikan.
Nadir bumi Dedicated
Penyediaan fluorida nadir bumi kontang adalah melalui pemendakan fluorida nadir bumi terhidrat daripada larutan akueus, kemudian dehidrasi, atau fluorinasi terus oksida nadir bumi dengan agen fluorinating.Keterlarutan fluorida nadir bumi adalah sangat kecil, dan penggunaan asid hidrofluorik boleh memendakannya daripada asid hidroklorik, asid sulfurik atau larutan asid nitrik nadir bumi (mendakan adalah dalam bentuk fluorida terhidrat).
Rawatan permukaan logam
Buang kekotoran yang mengandungi oksigen permukaan Asid hidrofluorik ialah asid lemah, sama kekuatannya dengan asid formik.Kepekatan umum asid hidrofluorik yang tersedia secara komersial ialah 30% hingga 50%.Ciri-ciri utama penyingkiran karat asid hidrofluorik adalah seperti berikut: (1) Boleh melarutkan sebatian yang mengandungi silikon, aluminium, kromium dan oksida logam lain juga mempunyai keterlarutan yang baik, biasanya digunakan untuk mengetsa tuangan, keluli tahan karat dan bahan kerja lain.(2) Untuk bahan kerja keluli dan besi, asid hidrofluorik kepekatan rendah boleh digunakan untuk penyingkiran karat.Larutan akueus asid hidrofluorik dengan kepekatan 70% mempunyai kesan pempasifan pada keluli (3) Asid hidrofluorik dengan kepekatan kira-kira 10% mempunyai kakisan yang lemah pada magnesium dan aloinya, jadi ia sering digunakan untuk mengetsa bahan kerja magnesium.(4) Plumbum secara amnya tidak terhakis oleh asid hidrofluorik;Nikel mempunyai rintangan yang kuat dalam larutan asid hidrofluorik dengan kepekatan lebih daripada 60%.Asid hidrofluorik adalah sangat toksik, dan tidak menentu, apabila digunakan untuk mengelakkan sentuhan manusia dengan cecair asid hidrofluorik dan gas hidrogen fluorida, tangki etsa paling baik dimeteraikan dan mempunyai alat pengudaraan yang baik, air sisa berfluorinat boleh dibuang selepas rawatan.
Penjerukan pasir kuarza
Ia berfungsi paling baik apabila dirawat dengan asid hidrofluorik, tetapi memerlukan kepekatan yang lebih tinggi.Apabila dikongsi dengan natrium ditionit, kepekatan asid hidrofluorik yang lebih rendah boleh digunakan.Kepekatan tertentu asid hidroklorik dan larutan asid hidrofluorik dicampurkan ke dalam buburan pasir kuarza pada masa yang sama mengikut perkadaran;Ia juga boleh dirawat dengan larutan asid hidroklorik terlebih dahulu, dibasuh dan kemudian dirawat dengan asid hidrofluorik, dirawat pada suhu tinggi selama 2-3 jam, dan kemudian ditapis dan dibersihkan Kekotoran dan oksida pada permukaan pasir kuarza boleh dikeluarkan dengan berkesan, dan ketulenan dan kualiti pasir kuarza dapat dipertingkatkan.
Kakisan gentian FOCS
Kakisan pengisian asid hidrofluorik gentian kristal fotonik (PCF) telah dibangunkan.Asid hidrofluorik telah diisi ke dalam lubang udara gentian kristal fotonik yang dilukis.Dengan menukar struktur keratan rentasnya, gentian kristal fotonik dengan struktur khusus telah dibangunkan untuk menukar kekonduksian cahayanya.Keputusan menunjukkan bahawa kehilangan kebocoran dan kehilangan taburan berkurangan dengan tahap kakisan lubang udara gentian hablur fotonik, pekali tak linear meningkat dengan jelas, indeks biasan berkesan mod teras dan indeks biasan bersamaan pelapisan menurun sejajar, dan serakan halaju kumpulan juga berubah.
GRED ELEKTRONIK
Penipisan skrin TPT-LCD
Di bawah perlindungan photoresist dan gam sempadan, kepekatan asid hidrofluorik diselaraskan, sejumlah asid nitrik, asid sulfurik pekat dan asid hidroklorik ditambah, dan keadaan tambahan ultrasonik ditambah, kadar etsa jelas bertambah baik.Kekasaran permukaan dikurangkan dengan berkesan dengan proses pembersihan berselang-seli, dan pemendakan lampiran permukaan putih dikurangkan.Menyelesaikan masalah permukaan kasar dan mendakan lekatan permukaan putih.
