page_banner

produk

Asid Hidrofluorik (HF)

Penerangan Ringkas:

Ia adalah larutan akueus gas hidrogen fluorida, yang merupakan cecair menghakis yang telus, tidak berwarna, berasap dengan bau pedas yang kuat.Asid hidrofluorik ialah asid lemah yang sangat menghakis, yang sangat menghakis kepada logam, kaca dan objek yang mengandungi silikon.Penyedutan wap atau sentuhan dengan kulit boleh menyebabkan luka bakar yang sukar sembuh.Makmal biasanya diperbuat daripada fluorit (komponen utama ialah kalsium fluorida) dan asid sulfurik pekat, yang perlu dimeteraikan dalam botol plastik dan disimpan di tempat yang sejuk.


Butiran Produk

Tag Produk

Maklumat produk

1

Spesifikasi disediakan

Cecair ketelusan Kandungan ≥ 35%-55%

 (Skop rujukan aplikasi 'penggunaan produk')

Gas hidrogen fluorida larut dalam air, dan larutan berairnya dipanggil asid hidrofluorik.Produk ini biasanya 35% -50% larutan akueus gas hidrogen fluorida, kepekatan tertinggi boleh mencapai 75%, untuk cecair asap yang tidak berwarna.Bau pedas, tidak menentu, asap putih di udara.Ia adalah asid bukan organik kekuatan sederhana yang sangat menghakis dan boleh menghakis kaca dan silikat untuk membentuk silikon tetrafluorida gas.Ia juga boleh berinteraksi dengan logam, oksida logam dan hidroksida untuk membentuk pelbagai garam, tetapi kesannya tidak sekuat asid hidroklorik.Emas, platinum, plumbum, parafin dan beberapa plastik tidak boleh menggunakannya, jadi bekas boleh dibuat.Gas hidrogen fluorida mudah dipolimerkan untuk membentuk (HF) 2 (HF) 3· molekul homochain, dan dalam keadaan cecair, tahap pempolimeran meningkat.Simpan dalam bekas yang diperbuat daripada plumbum, lilin atau plastik.Ia sangat toksik dan boleh ulser apabila terkena kulit.

EVERBRIGHT® juga akan menyediakan spesifikasi :kandungan/keputihan/zarah/nilai PH/warna/gaya pembungkusan/ pembungkusan tersuai dan produk khusus lain yang lebih sesuai untuk keadaan penggunaan anda, dan memberikan sampel percuma.

Parameter Produk

CAS Rn

7664-39-3

EINECS Rn

231-634-8

FORMULA wt

20.01

KATEGORI

Asid tak organik

KETUMPATAN

1.26g/cm³

KETERLARUTAN H20

larut dalam air

MENDIDIH

120(35.3%)

MENCAIR

-83.1(tulen)

Penggunaan Produk

金属
石墨
选矿

Penjerukan pasir kuarza

Ia berfungsi paling baik apabila dirawat dengan asid hidrofluorik, tetapi kepekatan yang lebih tinggi diperlukan.Apabila dikongsi dengan natrium disulfit, kepekatan asid hidrofluorik yang lebih rendah boleh digunakan.Kepekatan tertentu asid hidroklorik dan larutan asid hidrofluorik dicampurkan ke dalam mortar kuarza pada masa yang sama mengikut perkadaran;Ia juga boleh dirawat dengan larutan asid hidroklorik terlebih dahulu, dibasuh dan kemudian dirawat dengan asid hidrofluorik, dirawat pada suhu tinggi selama 2-3 jam, dan kemudian ditapis dan dibersihkan, yang boleh menghilangkan kekotoran dan oksida secara berkesan pada permukaan pasir kuarza dan bertambah baik. ketulenan dan kualiti pasir kuarza.

Rawatan permukaan logam

Keluarkan kekotoran yang mengandungi oksigen permukaan, asid hidrofluorik ialah asid lemah, sama kekuatannya dengan asid formik.Kepekatan umum asid hidrofluorik yang boleh didapati secara komersial ialah 30% hingga 50%.Ciri-ciri utama penyingkiran karat asid hidrofluorik adalah seperti berikut:

(1) Boleh melarutkan sebatian yang mengandungi silikon, aluminium, kromium dan oksida logam lain juga mempunyai keterlarutan yang baik, biasanya digunakan untuk mengetsa tuangan, keluli tahan karat dan bahan kerja lain.

(2) Untuk bahan kerja keluli, asid hidrofluorik kepekatan rendah boleh digunakan untuk penyingkiran karat.Larutan asid hidrofluorik dengan kepekatan 70% mempunyai kesan pempasifan pada keluli

(3) Asid hidrofluorik dengan kepekatan kira-kira 10% mempunyai kesan kakisan yang lemah pada magnesium dan aloinya, jadi ia sering digunakan dalam pengelasan bahan kerja magnesium.

(4) Plumbum secara amnya tidak terhakis oleh asid hidrofluorik;Nikel mempunyai rintangan yang kuat dalam larutan asid hidrofluorik dengan kepekatan lebih daripada 60%.Asid hidrofluorik adalah sangat toksik dan tidak menentu, dan digunakan untuk mengelakkan sentuhan manusia dengan cecair asid hidrofluorik dan gas hidrogen fluorida, tangki etsa paling baik dimeterai dan mempunyai alat pengudaraan yang baik, dan air sisa berfluorinasi yang dirawat boleh dibuang.

Pemprosesan grafit

Asid hidrofluorik ialah asid kuat yang boleh bertindak balas dengan hampir semua kekotoran dalam grafit, dan grafit mempunyai rintangan asid yang baik, terutamanya boleh menahan asid hidrofluorik, yang menentukan bahawa grafit boleh ditulenkan dengan asid hidrofluorik.Proses utama kaedah asid hidrofluorik adalah untuk mencampurkan grafit dengan asid hidrofluorik, dan bertindak balas asid hidrofluorik dengan kekotoran untuk tempoh masa untuk menghasilkan bahan larut atau meruap, selepas mencuci untuk menghilangkan kekotoran, dehidrasi dan pengeringan untuk mendapatkan grafit yang telah dimurnikan.

Khas untuk perlombongan nadir bumi

Kaedah penyediaan fluorida nadir bumi kontang adalah untuk memendakan fluorida nadir bumi terhidrat daripada larutan akueus, dan kemudian menyahhidrat atau menfluorinasi oksida nadir bumi secara terus dengan agen fluorinating.Keterlarutan fluorida nadir bumi adalah sangat kecil, dan ia boleh dimendakkan daripada larutan hidrofluorik, sulfurik, atau asid nitrik nadir bumi menggunakan asid hidrofluorik (mendakan dimendakkan dalam bentuk fluorida terhidrat).

Penipisan Skrin TPT-LCD (gred elektronik)

Di bawah perlindungan photoresist dan gam tepi, kepekatan asid hidrofluorik diselaraskan, sejumlah asid nitrik, asid sulfurik pekat dan asid hidroklorik ditambah, dan keadaan tambahan ultrasonik ditambah, kadar etsa jelas bertambah baik.Pembersihan berselang-seli boleh mengurangkan kekasaran permukaan dengan berkesan dan mengurangkan pemendakan lampiran permukaan putih.Masalah kerpasan lekatan permukaan kasar dan permukaan putih diselesaikan.

Hakisan gentian

Gentian kristal fotonik kakisan (PCF) yang dipenuhi asid hidrofluorik.Asid hidrofluorik diisi ke dalam liang gentian kristal fotonik yang diregangkan.Dengan menukar struktur keratan rentasnya, gentian kristal fotonik dengan struktur khusus dibangunkan dan kekonduksian optiknya diubah.Keputusan menunjukkan bahawa kehilangan kebocoran dan kehilangan taburan berkurangan dengan peningkatan tahap kakisan keliangan, pekali tak linear meningkat dengan jelas, indeks biasan berkesan acuan teras dan indeks biasan bersamaan pelapisan berkurangan, dan penyebaran halaju kumpulan. juga berubah.


  • Sebelumnya:
  • Seterusnya:

  • Tulis mesej anda di sini dan hantar kepada kami